Post on 25-Apr-2020
Teniendo como fin el control y manipulación de la materia a escala nanométrica, la nanotecnología está entrando en nuestras vidas con rapidez y se presume que pueda llegar a ser una nueva revolución industrial. Para ello se necesitan soluciones innovadoras tanto para la fabricación de nanomateriales como para su nanocaracterización. Desde Álava Ingenieros ofrecemos una línea completa de equipamiento científico orientado a este sector.
Soluciones para Nanotecnología
Cortesía de TESCAN
PURIFICACIÓN DE GASES INERTES
Para eliminación de agua, oxígeno, partículas o tritio en su
recinto, en diversas configura-ciones y capacidades.
AISLADORES FARMACÉUTICOSDiseñados para aislar el
producto en su interior del entorno, para aplicaciones
biológicas, farmacéuticas, nucleares, etc.
ACCESORIOS PARA CAJAS DE GUANTES
Hornos, spin coaters, sistemas de adsorción de disolventes,
detectores de agua y oxígeno, refrigeradores, etc.
DEPÓSITOS CVD
Con diversas presiones y configuraciones, incluyendo ALD,
LPE capas epitaxiales en fase líquida, selenización/sulfuración, RTP/RTA o
grabador seco.
DEPÓSITOS PVDRealizados en vacío e
integrados o no en atmósfera inerte, incluyendo metales y
orgánicos, sublimación, spin coater, chorro de tinta, ALD,
sputtering, etc.
CAJAS DE GUANTES
Para laboratorios industriales e I+D, en tecnologías emergentes
como baterías de litio,fabricación de
OLED/PLED, etc.
Atmósfera Inerte
alavaingenieros.com
PERFILOMETRÍASistemas de metrología de
superficie sin contacto, perfiló-metros ópticos de alta precisión
basados en técnicas interferomé-tricas, confocales, y de variación
de foco.
AFM-STMAFM de gran precisión.
Equipos altamente configu-rables, con control ambiental y
de temperatura. Alta velocidad de adquisición de imágenes
(hasta una imagen en 1 segun-do) a alta resolución.
XRDDifractómetros de polvo y
monocristal con una excelente precisión, calidad y alta fiabili-
dad. Incorporan detectores de última generación y diversos accesorios que permiten
satisfacer las necesidades de los laboratorios de
rayos X más exigentes.
SEMsobremesa
FE-SEM compacto con EDS. Obtención de imágenes a bajo
voltaje variable sin necesidad de recubrir las muestras aislantes. No precisa de instalaciones específicas.
TEM sobremesaTEM bajo voltaje (dos
modelos 5kV o 25kV). No precisa de sistema de enfria-
miento externo ni de instalacio-nes específicas. Resolución de
hasta 1 nm e imágenes de muy alto contraste.
SEM-FEGSEM-FIBSEMSEM equipados con la tecnología más
avanzada de gran calidad y viabilidad con un gran potencial analítico. El
rango de productos en esta categoría incluye SEM,
FEGSEM, FIB/SEM.
Nanocaracterización
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MICROSCOPÍAÓPTICA
Microscopios y estéreomicros-copios ópticos para la realiza-
ción de control de calidad y análisis de fallos, análisis de
componentes, etc.
ELIPSOMETRÍAAmplia gama de elipsómetros
tanto láser como espectroscó-picos de alta precisión, alta
rapidez de medida y cubrien-do un rango espectral
muy amplio.
INSTRUMENTA-CIÓN PARA MICROS-
COPÍASoluciones automatización e
instrumentación científica para un amplio rango de fabricantes
de microscopía óptica.MEDIDA Y
DISTRIBUCIÓN POR TAMAÑO
Medida de distribución por tamaños de nanopartículas para: I+D,
producción, aseguramiento de calidad, seguridad e higiene.
MESAS ÓPTICASSoluciones para evitar la
influencia de las vibraciones externas en aplicaciones en las que el alineamiento y la estabili-
dad sean críticos.
NANOINDENTACIÓN
El más preciso, flexible y de fácil uso del mercado que permite realizar
multitud de estudios mecánicos. Rango dinámico incomparable
en fuerza, desplazamiento y deformación.
Nanocaracterización
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PECVDDeposición química en
fase de vapor potenciada por plasma para diversi-
dad de procesos estándar SiO2, SiNx, SiOxNy en un
intervalo de temperaturas de RT a 350 ºC.
CVDSistemas de deposición
química en fase de vapor para aplicaciones en I+D y
producción en nanotecno-logía, solar, semiconductores
y MEMS.
EVAPORADORESSoluciones para depósito en capa fina
incluyendo evaporadores de capa fina, spin coaters, impresión mediante tinta, etc.
ICP-RIEAtaque/grabado por plasma a alta
velocidad con daños mínimos gracias a la baja energía de iones utilizada y con un
control dinámico de la temperatura.
ALDSistemas de depósito de capa atómica asistidos por plasma o
térmicos configurables para el depósito de óxidos, nitruros y
metales con posibilidad de monitorización en tiempo
real.
Depósitos y ataque
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+34 91 567 97 00 | alava@grupoalava.com
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